ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ

Анотація

Метою даного дослідження є вивчення закономірностей впливу властивостей дисперсної системи на показники полірування оптичного скла, ситалів та оптичних і напівпровідникових кристалів. На основі кластерної моделі зняття оброблюваного матеріалу під час полірування показано, що продуктивність полірування та висотні параметри шорсткості обробленої поверхні залежать від концентрації частинок шламу, що утворюються під час полірування, яка залежить від середнього значення потенціалу взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею. Врахування функції розподілу частинок шламу за площами їх поверхні та площі зони контакту зерна полірувального порошку з оброблюваною поверхнею дає можливість визначити потенціал взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею в залежності від константи Ліфшиця, яка залежить від електричних та оптичних характеристик оброблюваного матеріалу та дисперсної полірувальної системи, а також товщини проміжку між елементарними ділянками контактних поверхонь оброблюваної деталі та притиру, яка залежить від реологічних властивостей полірувальної суспензії та режимів полірування. В результаті досліджень встановлено, що властивості полірувальної дисперсної системи суттєво впливають на інтенсивність видалення оброблюваного матеріалу під час полірування оптичного скла, ситалів та оптичних і напівпровідникових кристалів, а також на шорсткість обробленої поверхні. Результати дослідження доцільно використовувати при розробці процесів нанополірування неметалевих матеріалів, а також при подальших дослідженнях закономірностей хіміко-механічного полірування надгладеньких поверхонь. Практичне значення та цінність отриманих результатів полягає в загальному підході до міжмолекулярної взаємодії конденсованих середовищ.